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            电路芯片超纯水设备

            电路芯片超纯水设备

              近几十年以来,混床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。

              近几十年以来,混床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生且再生过程中消耗大量的化学药品(酸碱)和工业纯水,并造成一定的环境问题,因此需要开发无酸碱超纯水系统。

              正因为传统的离子交换已经越来越无法满足现代工业和环保的需求,于是将膜、树脂和电化学原理相结合的EDI技术成为水处理技术的一场革命。其离子交换树脂的的再生使用的是电能,而不再需要酸碱,因而更满足于当今世界的环保要求。


              自从1986年EDI膜堆技术工业化以来,全世界已安装了数千套EDI系统,尤其在制药、半导体、电力和表面清洗等工业中得到了大力的发展,同时在废水处理、饮料及微生物等领域也得到广泛使用。

              EDI超纯水设备是应用在反渗透系统之后,取代传统的混床离子交换技术(MB-DI)生产稳定的超纯水。

              EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点

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             ?、诓僮骷虻?、安全。管理方便。

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              EDI工作原理

              EDI??榻胱咏换皇髦浼性谝?阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如图所示。 EDI??橹薪欢ㄊ康腅DI单元间用格板隔开,形成浓水室和淡水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水. EDI设备一般以二级反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI超纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

              EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业高纯水设备的应用中也日趋广泛。 


            成 分
            范 围
            总可交换阳离子(包括Co2
            < 25mg/L(以CaCo3计)
            PH
            5-9
            硬度(CaCo3计)
            < 0.1
            < 0.5
            < 0.75
            < 1.0
            回收率
            95%
            90%
            85%
            80%
            活性Sio2
            < 0.5mg/L
            总有机碳(TOC)
            < 0.5mg/L
            游离氧
            < 0.5mg/L
            参 数
            范 围
            单个??榱髁?/span>
            7.2-15GPM(1.6-3.4m3/h)
            正?;厥章?/span>
            80-95%
            温度
            40-100°F(5to38°C)
            进口压力
            45-100psi(3.1-6.8Bar)
            输入电压
            600VDC(最大)
            电耗
            0.32-0.66KW.h/m3
            外形尺寸
            12"Wx24"Hx19"D
            300mmWx610mmHx(90mmD)

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